Tweet

Nieuws/ ASML kondigt nieuwe generatie chipmakers aan /reageer

ASML, de maker van machines voor het fabriceren van computerchips, heeft de nieuwe generatie chipmakers aangekondigd: de TWINSCAN XT:1950i.

Deze nieuwe machine is gebaseerd op verbeterde immersietechnologie van ASML, en is ten opzichte van de vorige generatie 25% sneller en in staat om nog kleinere chips te vervaardigen.

Razendsnel ontwikkeld

De ontwikkeling van het apparaat nam slechts anderhalf jaar in beslag. Om dit voor elkaar te krijgen werkten bij ASML zo’n 450 mensen aan het project, en leverden vele leveranciers daarnaast een belangrijke bijdrage. Jan Mulkens, Program System Engineer bij ASML: “Dit is niet een machine die je achter je bureau bedenkt. Dankzij onze voorgaande generaties immersiesystemen hebben we veel kennis en ervaring opgedaan in het complexe samenspel van modules die uiteindelijk ultrakleine, snelle en geavanceerde IC’s moeten opleveren. Door onze grenzen opnieuw te verleggen zijn we in staat geweest ons eigen wereldrecord (op naam van de TWINSCAN 1900i) flink te verbeteren.”

Nog niet helemaal af

Vooralsnog bestaat het apparaat uit een cluster van prototype-configuraties, zeg maar een testopstelling. Met deze opstelling wordt de komende maanden testwerk verricht en wordt het systeem gegoten in een uiteindelijke configuratie die geschikt is voor lopende productie.

De reden voor deze werkwijze is de complexiteit van een dergelijk systeem. Niet alleen vanwege de hoeveelheid mensen — met specialismen als fysica, optica of mechatronica — dat eraan werkt, maar ook moet een machine die op zulke kleine oppervlakten en met zulke kleine structuren moet werken zeer zorgvuldig afgeregeld worden. Daarnaast moeten ook de klanten die het apparaat straks kopen opgeleid worden in het gebruik ervan. ASML verwacht dat het eerste apparaat in het eerste kwartaal van 2009 richting de klanten zal worden verscheept.

Techniek

De productiviteit van het apparaat is hoog: dankzij het snel positioneren van wafers kunnen tot wel 148 wafers per uur verwerken worden. Daarnaast is de resolutie, de grootte van de kleinste structuur die het apparaat kan printen, verbeterd van 40 naar 38 nm, wat 10% extra chips oplevert per wafer.

Het systeem is met name interessant voor DRAM en Flash geheugenproducenten, die zich in een concurrerende markt begeven waar een extra 10% opbrengst goed van pas komt.

Verder is dit het eerste ASML-systeem dat is voorzien van ‘inline cleaning‘. Omdat het tijdens de productie van computerchips zeer belangrijk is dat de wafers schoon zijn, worden deze schoongespoeld. Voorheen moest hiervoor het apparaat geopend worden, maar met dit automatische ‘wasprogramma’ is dat niet meer nodig. Dit scheelt tijd.

Immersietechnologie

De verbeterde immersietechnologie van het systeem plaatst een ultrapure vloeistof, ‘Ultra High Purified Water‘, tussen de lens en de silicium wafer (het bronmateriaal van een chip). Dat heeft als voordeel dat de systemen bij het printen van de chips gebruik kunnen maken van een hogere Numerical Aperture (NA). Dit is te vergelijken met een lensopening in de fotografie: hoe hoger de NA, hoe groter de scherptediepte en dus de beeldkwaliteit.

Met de beeldkwaliteit van het nieuwe apparaat kunnen lijnen van 38 nanometer geprint worden. Ter vergelijk: een menselijke haar is ongeveer 50.000 nanometer dik.