Intel naar 11 nanometer /reageer

Intel naar 11 nanometer

Intel verraste bezoekers van het LithoVision congres eind februari in San Jose, Californië door aan te kondigen hoe het transistors van 11 nanometer gaat maken. Chips waarop de kleinste structuren 11 nanometer meten, moeten volgens het straffe miniaturisatietempo van de elektronica, rond 2016 op de markt zijn. Bij deze afmetingen beginnen kwantumeffecten een rol te spelen, zodat hier de micro-elektronica definitief in nano-elektronica overgaat.

Intel verraste dan ook met de aankondiging dat het deze chips denkt te gaan maken met een traditionele technologie: 193 nm immersion. Bij immersion wordt de lucht tussen de lens en de silicium wafer in het lithografische proces vervangen door een vloeistof, doorgaans extreem gezuiverd water. De andere brekingsindex maakt dat de wafer nauwkeurig belicht kan worden.

Bijzonder is ook dat Intel denkt licht met een golflengte van 193 nanometer te gaan gebruiken. Immersion met 193 nm licht is ook de technologie waarmee het bedrijf nu structuren van 32 nanometer maakt. Intels eerste 32 nm chip, de Arrandale processor, kwam in januari op de markt. Overigens sluit Intel niet uit alsnog naar een lagere golflengte dan 193 nm over te stappen, als het die technologie in 2012 rijp genoeg acht.