Tweet

Intel naar 11 nanometer /reageer

Intel trad niet in details welke extra trucs het denkt te gaan toepassen om de bestaande technologie bruikbaar te maken voor 11 nm. Duidelijk is dat er ‘pitch division’ (ook bekend als ‘double patterning’) aan te pas zal komen. Hierbij wordt de wafer niet één maar meerdere keren belicht. Omdat iedere belichting voor een zekere onnauwkeurigheid zorgt bij het uitharden van de fotolak, ontstaat bij meerde belichtingsstappen een cumulatief effect, dat leidt tot een beter beheersbare gemiddelde onnauwkeurigheid.

Bij 11 nm is het aantal elektronen dat een transistor bedient zo klein, dat kwantumeffecten een rol kunnen gaan spelen. Dat zou betekenen dat de betrouwbaarheid van de transistor achteruit gaat. Er zijn echter ook mogelijkheden om de kwantumeffecten juist te gebruiken. Dan moet de transistor echter fundamenteel herontworpen worden, bijvoorbeeld als nanodraadjes of spintronics. Intel doet daar wel onderzoek naar, maar heeft ze nog niet in het vizier voor toepassing.